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高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)對(duì)于各種大尺寸
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)對(duì)于各種大尺寸硅片及晶體材料的研磨拋光加工都能起到理想的效果;高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)是由四個(gè)吸附盤吸附硅片與拋光盤做逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)來達(dá)到拋光的目的，是專門為加工制備晶體、陶瓷、玻璃、金屬、巖樣、礦樣、耐火材料、PCB板、復(fù)合材料的新一代產(chǎn)品。它配備了203mm直徑的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光直徑≤80mm或?qū)蔷€長≤80mm的矩形平面。采用本機(jī)并選擇適當(dāng)?shù)母郊?，可自?dòng)批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。無級(jí)調(diào)整擺動(dòng)頻率，實(shí)現(xiàn)平面磨拋更加平整。
高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的性能特點(diǎn)：
1、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的吸附盤由四臺(tái)單獨(dú)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)、速度與壓力可調(diào)。
2、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)的控制系統(tǒng)中采用PLC彩色終端等先進(jìn)技術(shù)，系統(tǒng)的響應(yīng)速度更快、更精確，并具有遠(yuǎn)程監(jiān)控，遠(yuǎn)程維護(hù)的功能。
3、高精密圓柱硅片研磨罐體拋光機(jī)運(yùn)行平穩(wěn)，拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負(fù)0.002mm范圍內(nèi)，粗糙度可達(dá)到0.0005mm。
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